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氫氣發(fā)生器結構：
氫氣發(fā)生器由電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調節(jié)閥、開關電源等部件組成。只電解純水即可產(chǎn)氫。通電后，電解池陰極產(chǎn)氫氣，陽極產(chǎn)氧氣，氫氣進入氫/水分離器。氧氣排入大氣。氫/水分離器將氫氣和水分離。氫氣進入干燥器除濕后，經(jīng)穩(wěn)壓閥、調節(jié)閥調整到額定壓力（0.02～0.45Mpa可調）由出口輸出。電解池的產(chǎn)氫壓力由傳感器控制在0.45Mpa左右，當壓力達到設定值時，電解池電源供應切斷；壓力下降，低于設定值時電源恢復供電。
儀器特點：
1. 壓力、流量自動顯示，自動恒壓、恒流，氫氣流量可根據(jù)用量實現(xiàn)全自動調節(jié)。
2. 雙支不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），氫氣純度更高；儀器內部采用硅橡膠圈(含硫量低)，有效提高氣體質量，保證色譜基線平穩(wěn)。
3. 配有安全裝置，靈敏可靠，自動防返堿。
GCD-6000大流量氫氣發(fā)生器主要技術參數(shù)：
1、氫氣純度：99.999%
2. 氫氣流量：0-6000ml/min
3. 輸出壓力：0-0.4Mpa
4. 壓力穩(wěn)定性：< 0.001MPa
5. 供電電源：220V±10%, 50Hz
同系列產(chǎn)品技術參數(shù)：
型號 | 流量 | 儀器特點 |
0-300ml/min | 全自動控制，不存儲氫氣，有水位、超壓的安全裝置，純度99.99999% | |
0-500ml/min | ||
0-300ml/min | 采用的離子膜制氫技術，無需加堿，直接電解純水（去離子水、二次蒸餾水），優(yōu)點：不污染色譜的任何部件。純度：優(yōu)于99.999%，壓力：0-0.4MPa | |
0-500ml/min | ||
0-1000ml/min | ||
0-200ml/min | 體積小，重量輕，單級過濾，壓力0.3MPa，自動防返堿，純度99.999% | |
0-300ml/min | 單級不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動防返堿，純度99.999% | |
0-300ml/min | 兩級不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），純度更高，壓力0-0.4MPa，0-0.6MPa兩檔可調，自動防返堿，純度99.999% | |
0-500ml/min | 單級不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動防返堿，純度99.999% | |
0-500ml/min | 兩級不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），純度更高，壓力0-0.4MPa，0-0.6MPa兩擋可調，自動防返堿，純度99.999% | |
0-1000ml/min | 大流量，可同時帶多臺色譜，自動防返堿，純度99.999% | |
0-3000ml/min | 安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業(yè) | |
0-6000ml/min | 安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業(yè) | |
0-9000ml/min | 安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業(yè) |
上一條：氮氫空一體機主要參數(shù)
